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MSK-PSP-FE2020閃蒸成膜儀是一款輔助成膜結晶設備。本設備主要針對于溶液法制備鈣鈦礦薄膜工藝所設計，設備可以創造真空條件，在真空條件下液體沸點降低，加快溶劑揮發，有利于鈣鈦礦薄膜的形成。經閃蒸處理后的薄膜結晶致密均勻。該設備適合實驗室及科研單位對鈣鈦礦薄膜研制使用。

MSK-PSP-HPL2020精密加熱臺是一款可以對樣品進行加熱或者恒溫控制的實驗設備。通過其加熱控制系統，可以在較短的時間內提高樣品溫度。同時，加熱平臺還可以提供穩定的溫度環境，為實驗的穩定進行提供保障。該設備主要應用于鈣鈦礦太陽能電池制膜工藝、化學研究、材料研究、生物學研究等，需要精準控制加熱溫度的領域。該設備控溫精度高、熱均勻好，為實驗穩定進行提供保障，適合實驗室及科研單位使用。

應用范圍：MSK-PSS-MC1010磁控濺射儀可在襯底基片上濺射一層薄膜，原理是由惰性工藝氣體產生輝光放電現象生成帶電離子，帶電離子經過電場加速后轟擊固體靶材表面，使靶材表面原子和分子被轟擊飛濺出來，同時產生二次電子，再次撞擊氣體原子而形成更多的帶電離子，從靶材濺射出來的粒子在低壓氣氛中向硅片作渡越運動，碰撞到襯底基片上并被基片吸附，最終凝聚在襯底形成需要的薄膜。