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PCE-6V 小型等離子清洗機集成了RF等離子體發生技術、計算機控制技術、軟件編程技術，采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。工作時外接一臺真空泵，清洗腔內的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，可短時間內*清洗掉有機污染物，清洗程度可達到分子級。另外，其樣品臺可選配加熱功能，可加負偏壓，用以實現離子蝕刻。此外，其可在特定條件下根據需要改變某些材料表面的性能。
PDC-36G 等離子清洗機是一種緊湊型、低成本的等離子清洗機。使用空氣、氧氣、氬氣等離子去除納米級有機物污染。在射頻電源的作用下，去除速率大每分鐘10納米。在單晶材料外延薄膜生長以前進行預處理，對生長具有顯著的作用 。
PCE-80 8.5英寸等離子清洗機是一款較大型的等離子清洗機，等離子腔體為 8.5 “dia x 12““L的石英腔體，采用的射頻電源功率0 - 100W連續可調節。此款設備主要是通過空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來去除基片上的氧化層和污染物，同時也可改變物體表面的性質（如親水和疏水性等）。對于基片的清洗以及薄膜處理此款設備是較為理想的實驗幫手。
PCE-500W 500W等離子刻蝕清洗機是一款較大型的500W等離子刻蝕清洗機，等離子腔體為 8.5 “dia x 14.4“L的石英腔體，采用的射頻電源頻率為13.56MH，功率0 -500W連續可調節。此款設備功率高，可用于等離子刻蝕、等離子灰化、表面改性以及材料摻雜改性等應用，對于基片的清洗以及薄膜處理此款設備是較為理想的實驗幫手。
GSL-1100X-PJF 等離子表面處理儀是一款緊湊的大氣離子表面處理噴射系統，主要由射頻發生器、離子束頭組成。噴射的離子束流能在較低的溫度和沒有真空條件下，迅速活化和清理材料表面。例如單晶片、光學元件、塑料等廣泛的材料。 為了獲得高質量的外延薄膜或者光學涂層，預*行表面處理可以得到顯著的效果。
GSL-1100X-PJF-A是等離子槍和可控制的樣品臺結合在一起的產品，有自動控制的樣品臺，就可使等離子槍按設定程序對樣品表面進行更均勻涂覆和處理，保證處理樣品表面的*性和均勻性。此系統是由RF發生器、氣體傳輸管、等離子槍頭和X-Y移動的工作臺（帶有真空吸盤和控制盒）。此系統產生等離子束可在非真空和低溫狀態下活化和清洗樣品表面，可處理的樣品有單晶片，光學元件和塑料等，也可在常壓下進行等離子增強
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